每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問(wèn)：公司之前提到過(guò)已有光刻對(duì)準(zhǔn)檢驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品并中標(biāo)過(guò)上海新微半導(dǎo)體采購(gòu)項(xiàng)目，請(qǐng)問(wèn)光刻對(duì)準(zhǔn)檢驗(yàn)機(jī)載半導(dǎo)體光刻各流程環(huán)節(jié)中起什么作用？國(guó)產(chǎn)替代前景如何？謝謝

天準(zhǔn)科技（688003.SH）9月12日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，MueTec于2021年中標(biāo)上海新微套刻誤差量測(cè)設(shè)備。套刻（Overlay）誤差量測(cè)設(shè)備主要用于量測(cè)半導(dǎo)體制造工藝中前后疊層之間對(duì)準(zhǔn)的套刻誤差，MueTec的套刻（Overlay）誤差量測(cè)設(shè)備可覆蓋65-90nm工藝節(jié)點(diǎn)，目前公司蘇州團(tuán)隊(duì)和MueTec團(tuán)隊(duì)正在合作開(kāi)發(fā)更先進(jìn)制程的套刻誤差量測(cè)設(shè)備。

(記者 蔡鼎)

免責(zé)聲明：本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考，不構(gòu)成投資建議，使用前核實(shí)。據(jù)此操作，風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。